สารเคมีทำความสะอาดอัลตราโซนิกเกรดแสงอาทิตย์ตัวแทนล้างไขมันซิลิคอน

สารเคมีทำความสะอาดอัลตราโซนิก เบื้องต้น

หนึ่งในความท้าทายที่ใหญ่ที่สุดในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์คือการปนเปื้อนที่พื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอน โดยทั่วไปซิลิคอนเวเฟอร์กลายเป็นสิ่งปนเปื้อนจากการสัมผัสกับอากาศซึ่งมีการปนเปื้อนของอนุภาคอินทรีย์ในระดับสูง สารปนเปื้อนเหล่านี้ยึดติดกับพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนอย่างรุนแรงเนื่องจากแรงไฟฟ้าสถิตที่แข็งแกร่งทำให้เกิดอาการปวดหัวสำหรับผู้ที่อยู่ในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

เพื่อให้สามารถทำงานได้อย่างถูกต้องเวเฟอร์ซิลิคอนจะต้องปราศจากสิ่งปนเปื้อนอย่างสมบูรณ์ การกำจัดสิ่งปนเปื้อนเหล่านี้ไม่ใช่งานง่ายที่สุดอย่างไรก็ตามเนื่องจากเวเฟอร์ซิลิคอนมีความเปราะบางมาก ด้วยเหตุนี้ธุรกิจการผลิตเซมิคอนดักเตอร์จะต้องปฏิบัติตามแผนการทำความสะอาดสูตรอย่างระมัดระวังเพื่อให้แน่ใจว่าพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์กลับสู่สภาวะที่สะอาดขณะที่ยังคงความเสี่ยงต่อความเสียหายน้อยที่สุด

คุณสมบัติของ สารเคมีทำความสะอาดด้วยคลื่นเสียง

1 ผลิตภัณฑ์กลุ่มเดียวที่มี PPR ที่สมบูรณ์แบบ (อัตราส่วนราคาประสิทธิภาพ)

2 โฟมต่ำไม่มีโฟมล้นในการทำความสะอาดล้ำเสียง

3. ประสิทธิภาพในการขจัดคราบไขมันที่ดีเพื่อตอบสนองความต้องการด้านไอทีที่มีความแม่นยำสูง

พารามิเตอร์ทางเทคนิคของ น้ำยาทำความสะอาดอัลตราโซนิก

คำแนะนำในการ ทำความสะอาดสารเคมีล้ำเสียง

1) ใส่น้ำบริสุทธิ์ลงในถังทำความสะอาดจนถึงสามในสี่จากนั้นเพิ่มตัวแทนในความเข้มข้น 3% เพิ่มน้ำจนถึงระดับการทำงานที่ผ่านมาความร้อนในการแก้ปัญหาอาบน้ำจนถึงอุณหภูมิในการทำงาน

2) จำเป็นต้องเปลี่ยนวิธีการแก้ปัญหาการอาบน้ำอย่างสมบูรณ์หลังจากล้างไขมันชิ้นซิลิคอนจำนวนหนึ่ง

3) ลดเวลาสัมผัสในอากาศเพื่อหลีกเลี่ยงการเกิดออกซิเดชัน

4) อุณหภูมิในการทำงาน 50-65 องศาเวลาในการกำจัด: 2-5 นาที

เกี่ยวกับเรา

ฉางโจว Junhe เทคโนโลยีสต็อก จำกัด เป็นองค์กรที่มีเทคโนโลยีสูงที่อุทิศให้กับการพัฒนาอุตสาหกรรมเคมีปรับอุปกรณ์พิเศษและผู้ให้บริการโซลูชั่นบริการซึ่งก่อตั้งขึ้นในฉางโจวมณฑลเจียงซูในปี 1998

การเคลือบป้องกันการกัดกร่อนของสังกะสีเกล็ดขนาดเล็กเป็นหนึ่งในผลิตภัณฑ์หลักของเรา บริษัท ของเราใช้ประสบการณ์และบทเรียนของเทคโนโลยีการเคลือบสี dacromet จากประเทศญี่ปุ่นและสหรัฐอเมริกา กลายเป็นหนึ่งในแบรนด์ชั้นนำในประเทศจีน

บริษัท ของเรามีฐานอุตสาหกรรมสาม: ฐานการผลิตสารเคมีฐานการผลิตอุปกรณ์เคลือบฐานการประมวลผลงาน